沉浸式突破！外媒报道我国测试首台国产DUV光刻机。   近日，芯片圈突然冒出了一个大新闻，正好是在中美关系因为贸易和技术摩擦不断拉锯的节骨眼上。   美国总统特朗普重返白宫后，针对我国高科技产业的限制一波接一波，很多人都以为我们在芯片设备上只能“卡脖子”被动挨打。   可没想到，这回外媒直接爆料：我国的首台国产浸没式DUV光刻机，已经在中芯国际的生产线上真刀实枪地试起来了。   说实话，这事不光让业内振奋，普通人看了也挺解气。   按照金融时报和路透社等外媒披露的内容，这台DUV光刻机是上海裕良盛半导体自主设计、制造的，2025年春天就送到了中芯国际的实验线。   这个裕良盛公司其实挺低调，成立没几年，但团队里不少人都是从国内外大厂跳过来的，技术底子不薄。   他们搞的这台机器，大部分部件都实现了国产化，只有个别超高精度的零件还得暂时从国外买。   公司也对外明确说了，现在正在全力攻关，争取不再依赖外采。   在全球半导体产业链不断震荡、台岛和韩国等地频频成为关注焦点的当下，国产光刻机的进展对于我国来说就是一张底气十足的“王牌”。   不仅让芯片制造厂商不再完全受制于人，也让下游手机、AI、汽车芯片等领域多了更多选择。   要知道，过去台岛的企业一旦被卡供应链，全球都得跟着“打喷嚏”。   现在有了国产设备，至少关键技术环节能够自主可控，这对于整个国家的信息安全和产业链安全都是实打实的保障。   当然，DUV光刻机的进步只是一个起点，和国际最先进的EUV设备还有差距。   现在业内普遍判断，国产DUV设备短期内主要承担28纳米到7纳米芯片的生产任务，至于5纳米甚至3纳米这种极限工艺，目前还没有官方计划，也没人敢随意下结论。   EUV项目则是“重兵集结”，但距离真正实现量产还有不少技术关和供应链难题要攻克。   业界的普遍态度是，先把DUV这一关打牢，后面再慢慢啃硬骨头。   这次国产DUV光刻机试用，不光是设备本身的突破，更是产业链上下游共同努力的结果。   国内材料、精密机械、控制软件、光学元件等多个环节协同发力，保障了设备能在工厂里稳定运行。   中芯国际的工程师团队也在一线做了大量适配和测试，确保设备能满足大规模生产要求。   随着国家政策持续加码，本地产业集群效应明显提升，相关企业也能更快推动技术升级和产业化落地。   说到底，国产光刻机能走到今天，背后是整个社会对科技自主的高度重视。   从普通消费者到产业决策者，大家都意识到关键技术必须掌握在自己手里。   现在我国芯片设备企业已经有了“敢想敢拼”的底气，未来无论国际环境怎么变，咱们都能稳住自己的阵脚。   总之，这波国产DUV光刻机的突破，既是技术层面的里程碑，也是产业链安全的重大进展。   它让更多人看到了我国半导体行业的希望，也让世界重新认识了中国制造的实力。   无论是芯片厂商还是普通消费者，都能从这场技术进步中感受到实实在在的变化。   接下来，国产设备能不能继续突破，还要看整个产业链的默契和坚持。   但有一点可以肯定，只要大家齐心协力，属于中国芯片的新时代，真的已经在路上了。   参考：英媒:中芯国际正测试首款国产先进AI芯片制造设备——东方财经杂志