【华为与新凯莱共研的国产EUV光刻机】华为在光刻机领域取得了重要进展,其自主研发的EUV光刻机已进入试生产阶段。以下是相关介绍:-研发合作与技术路线:华为联合新凯来研发的Hyperion-1EUV光刻机采用激光诱导放电等离子体(LDP)技术,绕开了ASML的二氧化碳激光轰击LPP方案,与上海微电子的LPP路线形成技术互补。-研发进度:2025年Q3至2026年Q2为技术论证阶段,在中芯京城200mm产线试产,目标为13.5nm波长穿透和5nm制程验证,当前产能10片/小时,良率70%。2026年Q3至2027年Q1为量产准备阶段,2026年Q1推出Hyperion-2,功率提升至150W,目标产能150片/小时,支持3nmDRAM和2nmSRAM工艺验证,2026年底完成全流程适配。性能优势:华为EUV光刻机的核心光源效率突破3.42%,距离ASML商用水平仅差最后一公里。设备每小时处理250片晶圆,高于ASML同级的195片,且设备体积缩小30%,功耗直降40%,成本仅为进口设备的1/3。量产规划:根据工信部路线图,2026年华为EUV光刻机将实现年产50台,20272028年良率提至60%-70%,满足国内70%的需求。