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中芯国际目前已经全部掌握了最新的芯片代工技术，同时能够不断迭代进化。虽然受制于光刻机，止步于7纳米工艺。虽然国人目前造不出EUV光刻机，但放眼5——10年的话，国人一定能造出EUV光刻机，届时依据国内海量的工程师红利、快速的迭代进化能力和巨大的客户市场，中芯国际一定会快速缩小与台积电的差距，在高端制程上拥有一席之地，公司的毛利率和净利率将会大幅提升。所有这一切都只是一种理论推演，然而它大概率能实现。理论指导实践，是之谓也。

上证报中国证券网讯红宝丽9月8日在互动平台上回答投资者提问时表示，目前公司主要生产聚氨酯聚醚、异丙醇胺等产品，不涉及光刻机芯片领域产品。

全球晶元企业出炉，三个中国企业榜上有名，中芯科技，华鸿和合肥晶合～但台积电的体量大致是中芯科技的10倍，这距离不是一般的远～科普下，这晶圆是制造半导体芯片的基本材料，为芯片制造提供了基础平台，通过光刻、蚀刻等工艺，在晶圆上形成复杂的电路结构，包括逻辑门、存储单元、放大器等～台积电和中芯科技的主要差距在缺乏光刻机，产能发挥不出来～台积电和中芯国际在光刻机上存在多方面的差距，具体如下：台积电拥有80多台EUV光刻机，可以搞定3纳米以下的工艺～而中芯科技无法获得光刻机，只能靠二手DUV光刻机通过多重曝光等技术来尝试生产更先进制程的芯片～主要量产14nm芯片，7nm芯片产量很少，5纳米工艺进入攻坚阶段～中国这几家芯片企业，和台积电的差距蛮大的～但中国正在突破这个技术难点，国产EUV光刻机预计2025年三季度进入试生产阶段，据说优于ASML最新机型。～你可以吐槽中国科技企业的不完美，但千万不要怀疑他们自主创新的能力，尤其中国的很多大事都是在政府集中社会力量的情况下搞的～你怎么看。

花了几亿美元把光刻机请进门，却先让它在洁净间里吃灰，芯片厂迟迟不投产，这操作让大洋对岸的分析师把键盘都敲冒烟了。ASML最新财报显示，中国订单占其新增营收的46%，可国内Fab的产能利用率只有六成。设备进场不跑货，钱不是打水漂，是在交学费。工程师每天拆机、装机、测参数，把图纸来回琢磨，一块反射镜的温差能记满三页A4。经验堆出来，后续维护就不用看老外脸色。把视角拉远，芯片只是棋盘里的一个子。上游的硅片、光刻胶、特种气体，国产厂商正挨个填空白；下游的新能源车、充电桩、智能家居，对28纳米和45纳米芯片的胃口每年放大30%。先把这些订单攥稳，再向7纳米递进，现金流不会断，队伍也能练手。更隐蔽的落子在量子、光子路线。合肥实验室里，光子芯片原型已经把特定AI模型的训练时间砍掉两位百分数。硅基追得吃力，换条跑道或许能直接超车。设备、材料、工艺、人才一起押注，时间表写在内部白板上，不对外披露。外媒天天替我们着急，其实生产线转不转，节拍器握在自己手里。芯片这场长跑，拼的不是谁起跑快，而是谁心跳稳。

“美国刚把14nm以下设备卡死，北京反手甩出一张清单：国产光刻机、刻蚀机、封装机全部进厂，谁不用谁写检查。”网友网友文件里那句“推广国产设备”不是口号。工信部同步拉起一条暗线：长三角26家晶圆厂、珠三角120条SMT线，全部接入实时产能监测屏，哪颗螺丝缺货，大屏15秒预警。补一句，上周日本刚宣布对23种设备追加许可，韩国三星立刻派副总飞合肥，点名要看国产氟化氩激光器实测。一句话：美国越勒脖子，中国越把自家机器推上前台，订单、数据、工程师，全动了。

比光刻机断供还可怕？日本这刀真要捅下来，中芯、长存恐怕得“断气”！如果说光刻机是芯片制造的“重武器”，那光刻胶、高纯度氟化氢这些材料就是“子弹”——重武器贵是贵，但能用上好几年，可“子弹”是消耗品，断了供，再厉害的产线也得停摆。日本就选在这上面动手，2025年4月要把23种关键半导体材料纳入管制，中国大陆企业想进口，得单独走审批流程，不光慢，能不能批下来都没个准信。这可不是吓唬人，年初福岛地震就给过教训了——信越化学的工厂一塌，光刻胶断了供，中芯国际北京的产线直接停了工，长江存储本来要扩产，也硬生生搁置了半年。现在主动搞管制，国内芯片厂都慌了神：库存一天天减少，28纳米以下的先进制程根本没法用低端材料凑数，真断供了，产线多停一天，损失就得按亿算。连美国英特尔、韩国那些大厂都跟着紧张，毕竟日本在这些材料上的份额太稳，全球产业链都得看它脸色。日本敢这么硬气，全靠在半导体材料领域的“垄断家底”。全球高端光刻胶市场，日本企业占了快八成，东京应化一家就攥着两成多份额，最先进的EUV光刻胶，几乎被日本包圆了。他们的光刻胶纯度有多狠？1吨材料里的金属杂质能控制在1克以下，这种精度咱们现在还没摸到门。国内光刻胶企业不是不想追，可高端树脂都做不出来——就像烤蛋糕没有好面粉，再好的配方也烤不出像样的成品。想囤货应对？政策变来变去，谁也不敢大批压货，怕砸手里。有些厂想绕路去东南亚设厂拿货，结果运输时间从一周变成半个月，运费还涨了两成，成本又上去了，纯属拆东墙补西墙。不过咱们也没坐以待毙，一边应急一边攻坚，两条腿走路。短期先想办法保供应，把安全库存提上去，东南亚的中转厂也抓紧建，先把眼前的难关扛过去。长期来看，技术突破的苗头已经冒出来了。清华的团队搞出了用碲元素做的EUV光刻胶，实验室里测出来的数据挺亮眼，就是量产的时候，提纯和产能这两道坎还得慢慢磨。上海新阳也有招，改了光刻胶的配方，绕开了日本的专利，现在产品已经在部分产线试用了，价格还比进口的便宜，算是打了个漂亮的“性价比牌”。以前国内半导体材料产业可能还想着“慢慢追就行”，现在知道不突破不行，提升国产化比例成了全行业的共识。日本想靠材料管制卡脖子，没料到反而让咱们拧成了一股绳——清华的碲元素光刻胶、上海新阳的专利突破，一点点撕开日本的技术垄断。虽然现在成本涨了、生产节奏乱了，但从长远看，这场光刻胶保卫战，正在帮咱们把半导体供应链的“命门”攥回自己手里。等国产材料在更多产线站稳脚跟，日本再想靠管制扼住咱们的咽喉，可就没那么容易了。

87亿美元还在往外掏，你心疼不？上海微电子把28纳米光刻机摆出来那一刻，办公室里的老外工程师集体沉默。机器能动了，可只占市场2.5%，剩下97.5%的饭锅还被别人端着。原因简单：国产机现在只能做入门芯片，手机电脑里更精细的活儿还得求进口。国家每年掏87亿买别人设备，等于给对手送子弹，送得越多，他们压得越低，利润全被抽走，想追就更难。上海微电子想要的不是掌声，是订单。订单靠两点：机器要稳，价格要狠。稳住就要砸钱做测试，一测半年；狠价就要牺牲利润，甚至赔本卖。补贴和芯片厂敢不敢用，决定它能不能活下去。要是三年后国产化率还停在个位数，这87亿就会变成常态，到时候就不是心疼，是肉疼。光刻机争气，我们得先给它饭锅和灶火。你愿不愿意买国产芯片的手机，把这口锅留给自己人？

国产光刻胶产业链龙头公司:1.整机制造和投资平台上海微电子:国内唯一量产90nm光刻机，推进28nm商业验证张江高科:持股上海微电子新凯莱:手持100亿订单，中国光刻机希望之星。​2.光源系统:凯美特气:打破海外垄断，国内唯一通过阿斯迈认证的光刻气供应商。福晶科技:激光晶体市占率60%，参与国内光刻机光源研发。北京科益虹源:准分子光源制造商​3.光学系统:波长光电:DUV光刻机投影物镜量产企业，适合65nm以下工艺。奥普光电:光刻机工作台市占率60%茂莱光学:进入上海微电子供应链​4.精密部件与设备:蓝英装备:清洗设备，进入阿斯迈供应链华卓精科:突破双工作台富创精密:量产7nm设备零部件，提供光刻机真空腔体，进入台积电供应链。​5.材料与辅助系统:南大光电:打破美日垄断，量产ArF光刻胶彤程新材:量产KrF光刻胶美埃科技:光刻洁净系统主要供应商​行业现状:国家大基金三期投入，目标2030实现高端设备自主权。部分环节还需突破。

每台4亿美元，重达180吨，全球最先进的光刻机终于揭开神秘面纱！在荷兰费尔德霍芬ASML总部的无尘车间里，一座180吨重的“钢铁巨兽”正散发着冷冽的科技光芒——它就是全球半导体行业的“顶流”，高数值孔径（HighNA）极紫外（EUV）光刻机。2024年它刚实现商业化交付，就被英特尔、三星、台积电等巨头抢破头，甚至有人说“拿到它，就等于握住了2纳米芯片的入场券”。可很少有人知道，这台价值4亿美金的设备，不仅是人类精密制造的巅峰，更是全球科技产业链博弈的缩影。今天咱们就扒一扒，这台“神器”到底有多牛，又为何让各国如此看重。先说说它的“出身”，堪称一部“十年磨一剑”的硬核史诗。早在2013年，ASML就盯上了“突破光刻极限”这个难题。当时传统EUV光刻机的数值孔径只有0.33，最多只能支撑5纳米制程，要想做更小的芯片，必须升级技术。可这一步难如登天——极紫外光本身就“娇贵”，波长只有13.5纳米，比头发丝直径还细万倍，稍微有点干扰就会“跑偏”。有次为了测试光源稳定性，团队连续72小时守在设备旁，盯着屏幕上跳动的光斑，就怕错过一个数据异常。2023年底，第一台HighNAEUV光刻机终于下线，交付给了英特尔时。这台机器里，藏着超过10万个精密零件，整合了荷兰的机械、美国的激光、德国的光学、日本的特种材料，说是“全球科技混血儿”一点不夸张。这台机器占地足足100平方米，比3个卧室还大，高度超过4米，得搭着梯子才能摸到顶部。走近看，它的外壳是银灰色的特种合金，严丝合缝得连灰尘都进不去；正面的观察窗用的是特制石英玻璃，能透过极紫外光却不影响精度。但最绝的还是内部结构——光源系统像个“微型太阳”，用高功率激光轰击锡滴，每秒能产生5万次等离子体爆炸，才能稳定输出极紫外光；光学系统里的15片镜片，每一片都镀了20多层膜，每层膜的厚度误差不超过0.01纳米。可这么个“大家伙”，运输和组装比造它还麻烦。它的四个核心模块要分别在荷兰、美国加州、美国康涅狄格州和德国的工厂生产，光运到荷兰总部集成，就得用7架波音747飞机或者25辆特种卡车。到了客户工厂，还得先搭个“无尘堡垒”——车间的洁净度要达到“每立方米只允许10个灰尘颗粒”，比医院手术室还干净100倍。然后20多个工程师围着设备，像拼乐高一样拆解、组装，光是校准光学系统，就得花3个月时间。ASML在先进光刻机领域几乎垄断——EUV专利覆盖率92%，全球85%的高端市场都被它拿下。截至2025年初，全世界只有5台HighNAEUV光刻机，全在英特尔、三星、台积电手里。为啥这么稀缺？一方面是产能有限，ASML一年最多造20台；另一方面是地缘政治在“搞事情”——美国施压荷兰政府，限制ASML向中国出口先进光刻机，想卡住中国芯片产业的脖子。可这招未必能得逞。ASML前CEO温宁克早就说过：“封锁只会让中国更努力。”现在中国企业正在加快自主研发，上海微电子已经能造出28纳米的DUV光刻机，虽然和HighNAEUV还有差距，但每一步都在进步。而且佳能、尼康也在憋大招，佳能推出的纳米压印光刻技术，虽然量产还有问题，但成本比ASML的设备低10倍，说不定哪天就能“弯道超车”。更有意思的是，这台光刻机还让我们看到了科技的“双刃剑”——它能让芯片更先进，推动手机、电脑、AI技术发展，但也可能成为“技术霸权”的工具。ASML的工程师们其实也很矛盾，他们既想让技术造福全球，又不得不面对政治的干预。有位工程师在采访里说：“我们造的是机器，但希望它不要成为壁垒。”如今，ASML已经把单晶圆曝光能耗降低了60%，下一代HyperNA系统也提上了日程，预计2032年能实现0.55以上的数值孔径。而中国、日本、韩国的企业也在各自发力，这场“光刻竞赛”才刚刚开始。说到底，这台4亿美金的机器，不只是个冷冰冰的设备。它藏着人类对“极致精密”的追求，藏着全球产业链的协作与博弈，更藏着科技发展的未来方向。就像ASML的广告语说的：“我们雕刻的不是芯片，是未来。”而在这场没有硝烟的科技战争里，谁能掌握核心技术，谁就能在未来的赛道上跑得更快——这，或许就是HighNAEUV光刻机给我们最深刻的启示。参考资料：央视网2025.05.27《造价超4亿美元！最先进光刻机公开》

就在刚刚！美国突然宣布！9月6日，美国新规出台，限制中国企业购买光刻机，规定3nm以下制程、量子算力和新增材设备都需要许可证。9月7日，荷兰ASML也宣布老型号1970i和1980i出口需要申请。贸易圈热议美国商务部清单，涉及量子计算、半导体制造等核心技术的多种形式，澳门也被纳入管控之中。美国以国家安全为由限制核心设备出口，对拥有全球最高制程光刻机的ASML而言，其审批流程复杂，时间漫长，限制的原因多为“国家安全”，但对咱们国家工厂而言，这些老型号1970i和1980i并不重要，新采购的都是极紫外光刻机（EUV），但由于美国新规出台，EUV厂商需要许可证，未来几个月将会非常艰难。国产设备进展飞速，如中微公司的刻蚀机、北方华创公司的沉积设备等，均在加快落地。ASML总裁也表示，“中国市场对我们来说是不可忽视的”，这与中国在荷兰投资数百亿欧元密不可分。另一个例证是华为麒麟芯片的重出江湖，以及128层闪存的量产，都证明了咱们中国在高科技领域的制裁反而促进了发展的现实。荷兰方面也宣布，明年4月1日起对量测和沉积设备也实施限制，对在荷兰的制造业和科技公司影响深切体会。评论区网友们都纷纷议论：随着限制措施的加强，咱们国家在自主研发和制造能力方面会加速布局，在半导体领域的科研投入会不断增加，面对不断变化的国际贸易环境，网友们都相信，咱们国家会在科技企业方面继续创新会有更好的突破！支持祖国更强大！