中国光刻机又出现新的突破
10NM压印光刻系统正式交付，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印光刻系统正式交付国内特色的工艺与客户， 这标志着中国在高端半导体装备领域打破了日本佳能的长期垄断，为国产芯片制造自主化进程注入了强劲动力，美国前段时间为了卡我们，在光刻机和芯片这块，他们甚至成立了光刻机联盟联合日本、韩国、荷兰，不允许向我们出口先进光刻机，
妄图阻断国产芯片和AI产业的发展，然而令他们意想不到的是，中国企业毫不气馁，奋力突破，终于研制出了自己的光刻机，他们原先吹嘘光刻机，就是给我们图纸，我们也研制不出来，然而我们就是不信这个邪，相信随着时间推移，无论多么先进的光刻机和芯片，我们中国都能研制生产出来，美西方国家想卡我们的脖子，想都别想，而且我们拥有庞大的市场，等国产光刻机成功了，未来的芯片将会成为白菜价。
