光刻机更新：破局之年！2025有望成为国产半导体产业链投资黄金期，国产EUV光刻机技术突破+ASML维保本土化+成熟制程扩产！             事件1：3月8日外媒报道，中国自主研发的E 光刻机采用激光诱导放电等离子体(LDP)技术正在测试。 事件2：ASML在2024年年报中披露，2025 年计划在北京开设一个新的再利用和维修中心。 事件3：据25年2月环评报告，上海微电子计划新增100台用于成熟制程后道先进封装光刻机，较现有19台产能显著提升。             EUV 光刻机一直以来是我国半导体行业7nm难以实现高良率生产，5nm及以上技术节点难以突破的卡点。截至2024Q3，全球7nm及以上技术节点市场份额约48%，其中6/7nm占比11%/，4/5nm占比24%。EUV 光刻机的突破意味着7nm及以上先进制程市场，也即接近翻倍的市场空间向我们打开，国产半导体产业链将迎来估值重塑。             2024年ASML中国大陆收入101.95亿欧元，占比36%，根据产业调研反馈，目前大陆存量光刻机数量预估2000台，其中ASML占比超过70%，此次ASML规划北京再利用和维修中心对ASML具有重要商业意义，同时一定程度表明了ASML对中国大陆的态度（目前并未相应美国制裁号召），结合到ASML后续不再披露中国大陆销售情况，对中国大陆后续晶圆厂先进制程扩产是积极信号。             面对中国大陆庞大的光刻机再利用、维保市场，ASML预计通过扶持本土供应链来完成从光刻机光源系统到精密光学组件，实现全链条国内自主维修（参考ASML 24年报的描述：其相关维修中心，与当地供应商和专业维修合作伙伴合作，打造本地生态系统），实现全境内维保市场本地自主，这也有助于规避美国后续相关制裁（大概率是ASML属地化的原因）。对本土光刻机相关零部件供应商是利好：一方面配套ASML再利用、维保零部件供应提升本土产业链光刻机配套能力，加速国产光刻机突破；另一方面，庞大的ASML后市场大幅提升本土零部件成长空间。                 光学系统为光刻机重要组成。光学系统直接影响光刻机分辨率和良率，大约占光刻机成本的30%。高端光刻机光学系统价值量高，预计2025年全球光刻机光学系统市场规模有望达到60亿美元，对应2022-2025年CAGR为25%。目前，蔡司为全球光刻机光学系统市场绝 对龙头，国产替代空间巨大。国内供应链导入有望从零部件替换开启。半导体设备零部件构成复杂，供应链较为分散并严重依赖海外巨头。国内存量设备维保有望成为国内供应商导入核心设备供应链的重要机遇，通过维保提升技术能力，逐步从“模仿”到超越，推进国产光刻机零部件国产化进展。             今年高端整机处于量产拐点，国产供应链加速导入配套。行业终端客户扩产使得产业链内市场空间在不断扩容，远期能够想象的天花板够高；个股业绩在量、价两个维度都在拓展，今年产业趋势基本明确。继续看好光刻机自主可控：茂莱光学（物镜系统深度绑定上海微电子）、福光股份（镜片加工主要配合长光所+镜头翻新维保）、汇成真空（镜片定期镀膜维保设备已交付验收）、英诺激光（预脉冲激光器是EUV光源核心部件）。     阅读 1.0万