黄仁勋承认Blackwell良率低是NV自己的问题，与台积电无关。的确如此，台积现在N4的良率已经非常高，手机级别的芯片良率应该接近90%。承认合作伙伴出色是气度，又可以获得友谊。
可见的未来3年，英伟达还是要全面依靠台积电的先进制程。三星和Intel只能说评估一下就好。
黄仁勋承认Blackwell良率低是NV自己的问题，与台积电无关。的确如此，台积现在N4的良率已经非常高，手机级别的芯片良率应该接近90%。承认合作伙伴出色是气度，又可以获得友谊。
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