就这个工信部新出的光刻机这个名录问题,我咨询了很多懂行的朋友。实际上呢,套刻精度8纳米是指允许有8纳米误差,实际上应该是28纳米制程,这个干式光刻机呢,也就相当于阿斯麦2004年的技术水平!虽然不是真正意义上的8纳米,可你们要知道,这可是咱们独立研发制造出来的,全球能拍胸脯说可以独立制造的,恐怕只有我兔了!别小看了100%国产化这句话,也别怀疑咱们的战略协调能力,论独立制造,老美也不行!虽然他可以整合自己的光源,外加德国的镜片、瑞士的机床…… 而且,说句吹牛的话,现在咱们这个可以生产28NM的,重复曝光可以生产14NM的,也就是70%的芯片生产完全不受美国控制了。干式以后,下一步湿式的,可以生产7-14NM的,再下步就EUV了,也有专家乐观估计,如果不出意外,十年以后,中国完全自主掌控全部芯片设计、生产。也就是说,让老美和阿斯麦先跑十年,反正现在也到极限了,10年以后,咱们也登上华山之巅了! 当然,依咱们一贯保守的做法,现在的科技实力可能不止向外公布的这个28纳米的段位,所以说,也许五年?8年后咱们就到达山顶了!
评论列表