5月26日，据俄罗斯当地媒体称，俄罗斯首台光刻机已经制造完成，且正在进行测试中。俄罗斯工贸部副部长瓦西里·什帕克表示，该设备能够确保350纳米工艺芯片的生产。
俄罗斯工贸部副部长瓦西里·什帕克还表示，“我们组装且制造了首台国产光刻机。如今正在进行测试阶段，作为泽廖诺格勒技术生产线的计划之一。俄罗斯的下一个目标是到2026年能够制造可支持130纳米工艺芯片的光刻机。
据介绍，目前350纳米工艺芯片依旧能够应用于能源、汽车、通讯等多个行业。
据报道，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所曾于2022年表示，该公司宣布正在开发俄罗斯首台半导体光刻设备，并吹嘘这台光刻机将可以生产使用7nm的芯片，并将在2028年全面投入使用。
据报道，他们准备在6年内生产出这台光刻机的工业样机，从2024年开发alpha机器开始。这个阶段的重点不在于工作或解决方案的速度，而在于全部系统的全面性。
