俄罗斯联邦工业和贸易部副部长 Vasily Shpak 表示已研发成功350纳米光刻机，接下来是希望在2026年研发可以支持130纳米的光刻机，这意味着该国正在打破ASML在光刻机市场的垄断。

在全球光刻机市场，ASML无疑是老大，占有超过六成的市场份额，在EUV光刻机方面更是独门生意，全球仅有ASML能生产EUV光刻机。

不过EUV光刻机虽然是ASML的独门生意，但是为ASML带来更多收入的还是DUV光刻机，ASML也只是预期未来EUV光刻机的产量提升到100台，而DUV光刻机的产量提高到600台，可见DUV光刻机的市场规模大得多。

在DUV光刻机方面，其实并非ASML所独有，日本的尼康、佳能等也在生产DUV光刻机，只不过日本的光刻机在浸润式和EUV光刻机方面落后于ASML，如今佳能则选择了研发NIL技术，绕开EUV光刻机的限制，据称佳能的NIL技术已得到日本铠侠和美国美光的采用。

除了他们之外，中国其实也能生产光刻机，只不过公开的报道指出中国研发的光刻机在65纳米以上，而中国正在努力研发28纳米以下的浸润式光刻机，浸润式光刻机可以发展到7纳米工艺。

中国的芯片制造企业目前就以浸润式光刻机研发接近7纳米的工艺，某国产手机的5G芯片被认为就是以接近7纳米的工艺生产，这是国产芯片的重大进步，意味着国产芯片在先进工艺方面取得了重大突破。

业界人士指出中国所需求的芯片，7纳米以上工艺占七成到九成，中国如能实现7纳米的大规模量产，那么国产芯片的自给率可以大幅提升，而这几年中国芯片由于国产芯片替代，芯片进口大幅减少，2023年的芯片进口金额较2021年减少了近千亿美元。

俄罗斯如今也开始自研光刻机，在于众所周知的影响，导致俄罗斯无法进口光刻机，而推进自研光刻机，如今它实现自研光刻机的重大突破，代表着它的光刻机产业开始起步。

对于光刻机这个行业来说，有了起步，后续可以逐步升级，光刻机本身就是一条很长的产业链，ASML的EUV光刻机就需要全球5000家企业协作生产，俄罗斯实现自研光刻机，意味着它已打造了一条完整的光刻机产业链。

不过从俄罗斯的光刻机产业发展也可以看出，它的进展过于缓慢了，预计到2026年才量产130纳米光刻机，而2026年全球的先进工艺将发展到2纳米，俄罗斯的光刻机发展无疑比全球落后太多。

全球的芯片产业链曾经强调自由贸易，但是却由于种种原因被打断，如今各国都开始发展自己的芯片产业链，对全球芯片产业将产生重要影响，这样的结果显然与自由贸易相违背，导致如此结果是某国造成的，它曾力推自由贸易，如今却又强势打断，凸显出它的强横和任性。