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中国一直在努力研制自己的光刻机技术，用以点破面的方式，一点一滴积累，解决各项核心技术难题，最终形成完整的产业链体系。一则好消息传来，中国取得光刻机新突破，我国研发出全球最薄光学晶体，能效提升万倍。

光刻机是一种用于微电子制造中的关键设备，主要用于将光线通过掩模投射到光敏感的硅片上，从而形成微小的图案和结构。这些图案和结构通常用于制造集成电路和其他微纳米尺度器件。

高端EUV光刻机内含10万个零部件，其中对激光技术的要求非常高。光刻机是用光来曝光芯片，因此激光技术组成的光学系统能起到决定性作用。好消息是，中国取得了一项激光技术领域的新突破。

在2024中关村论坛年会上，北京大学团队公布了一项“转角氮化硼光学晶体原创理论与材料”的技术，该技术提出了新的光学晶体理论，使用轻元素材料氮化硼制备出全新的光学晶体——转角菱方氮化硼。

该晶体是全球最薄的光学晶体，和传统的光学晶体比起来，能效提升了万倍。有了如此大的能效提升，对作用于新一代激光技术领域有非常大的促进作用。光学晶体决定了激光的性能，频率等等核心指标，在光刻机设备上同样是不可或缺的。

所以有了转角菱方氮化硼的突破，中国未来有望应用于光刻机制造，让中国加速半导体领域的自给自足。

当然，一项技术想要从理论变成实践，再转变为产业化的成果是需要投入大量人力精力物力的，希望北京大学科研团队能发挥出这项技术的潜力，夯实中国光刻机制造业的发展。

中国最擅长的就是将不可能变为可能，ASML说过，不向中国出货光刻机，就会导致全球供应链中断。而且ASML还表示中国有很多聪明人，如果不分享技术，他们就会自己去研究。事实证明，中国并未停止光刻机自研的脚步。

ASML担心有一天中国自主光刻机推向市场以后，ASML的光刻机订单就会减少，然后失去中国市场。甚至在海外市场，ASML也会面临来自中国光刻机的竞争压力。如今中国科研团队取得了激光技术的新突破，难道ASML的担忧成真了？

目前可以确定的是，中国不会停止自研的脚步，有一就有二，转角菱方氮化硼的制备成功或许只是开始。除了激光技术，其余光刻机所需的双工件台、物镜系统、光学系统、曝光系统等等也有相应的国产厂商参与研究。

虽然还比不上国际顶级水准，但只要给中国足够多的时间，一定能将不可能变成可能。就像当初西方垄断盾构机，手撕钢和高铁技术一样，经过中国的努力，这些已经成为中国走向世界的名片。

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