曝中芯国际首款5nm光刻机正在测试据报道，中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇生产的深紫外线（DUV）光刻机，正测试的光刻机采用浸没式技术，类似于ASML所采用的技术。知情人士透露，中芯国际正在测试一台28纳米的DUV设备，并利用多重曝光来生产7纳米芯片。今日芯片概念大爆发，“芯片一哥”中芯国际创历史新高！